Study of the structure and composition of the strained epitaxial layer in the InAlAs/GaAs(100) heterostructure by transmission electron microscopy


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The results of electron microscopy studies of an epitaxial InAlAs layer on a GaAs(100) substrate are reported. It is established that there exist misfit dislocations at the interface between the materials and there are residual strains distorting the lattice in the layer. From the measurements of lattice parameters in the directions parallel and orthogonal to the growth direction away from misfit dislocations, the local nominal lattice parameter of the layer is calculated and the relative content of indium is determined.

Об авторах

M. Lovygin

National Research University of Electronic Technology MIET

Автор, ответственный за переписку.
Email: lemi@miee.ru
Россия, Zelenograd, Moscow, 124498

N. Borgardt

National Research University of Electronic Technology MIET

Email: lemi@miee.ru
Россия, Zelenograd, Moscow, 124498

A. Bugaev

Institute of Ultrahigh-Frequency Semiconductor Electronics

Email: lemi@miee.ru
Россия, Moscow, 117105

R. Volkov

National Research University of Electronic Technology MIET

Email: lemi@miee.ru
Россия, Zelenograd, Moscow, 124498

M. Seibt

IV Physical Institute

Email: lemi@miee.ru
Германия, Gottingen, D-37077

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).