Study of the structure and composition of the strained epitaxial layer in the InAlAs/GaAs(100) heterostructure by transmission electron microscopy


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The results of electron microscopy studies of an epitaxial InAlAs layer on a GaAs(100) substrate are reported. It is established that there exist misfit dislocations at the interface between the materials and there are residual strains distorting the lattice in the layer. From the measurements of lattice parameters in the directions parallel and orthogonal to the growth direction away from misfit dislocations, the local nominal lattice parameter of the layer is calculated and the relative content of indium is determined.

Авторлар туралы

M. Lovygin

National Research University of Electronic Technology MIET

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: lemi@miee.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124498

N. Borgardt

National Research University of Electronic Technology MIET

Email: lemi@miee.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124498

A. Bugaev

Institute of Ultrahigh-Frequency Semiconductor Electronics

Email: lemi@miee.ru
Ресей, Moscow, 117105

R. Volkov

National Research University of Electronic Technology MIET

Email: lemi@miee.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124498

M. Seibt

IV Physical Institute

Email: lemi@miee.ru
Германия, Gottingen, D-37077


© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>