Информация об авторе

Struchkov, A. I.

Выпуск Раздел Название Файл
Том 53, № 11 (2019) Nonelectronic Properties of Semiconductors (Atomic Structure, Diffusion) Do Chemical Effects Affect the Accumulation of Structural Damage during the Implantation of Fluorine Ions into GaN?

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах