English
Kazakh
Português (Brasil)
Русский
简体中文
Cabeçalho da Página
Semiconductors
ISSN 1063-7826 (Print) ISSN 1090-6479 (Online)
Menu     Arquivos
  • Página principal
  • Sobre a Revista
    • Equipe Editorial
    • Política Editorial
    • Diretrizes para Autores
    • Sobre a Revista
  • Edições
    • Pesquisa
    • Edição corrente
    • Artigos retraídos
    • Arquivos
  • Contatos
  • Assinatura
  • Todas as revistas
Usuário
Esqueceu a senha? Cadastro
Notificações
  • Ver
  • Assinar
Conteúdo da revista
Navegar
  • Edições
  • Autores
  • por título
  • por Seção
  • Outras Revistas
Assinatura Entrar no sistema para verificar sua assinatura
Palavras-chave GaAs GaAs Substrate GaN Gallium Nitride Sapphire Substrate Versus Characteristic annealing carbon nanotubes doping exciton graphene heterostructure heterostructures luminescence molecular-beam epitaxy photoconductivity photoluminescence quantum dots quantum well silicon thin films
×
Usuário
Esqueceu a senha? Cadastro
Notificações
  • Ver
  • Assinar
Conteúdo da revista
Navegar
  • Edições
  • Autores
  • por título
  • por Seção
  • Outras Revistas
Assinatura Entrar no sistema para verificar sua assinatura
Palavras-chave GaAs GaAs Substrate GaN Gallium Nitride Sapphire Substrate Versus Characteristic annealing carbon nanotubes doping exciton graphene heterostructure heterostructures luminescence molecular-beam epitaxy photoconductivity photoluminescence quantum dots quantum well silicon thin films
Página principal > Pesquisa > Informaçao sobre o Autor

Informaçao sobre o Autor

Krivyakin, G. K.

Edição Seção Título Arquivo
Volume 50, Nº 7 (2016) Semiconductor Structures, Low-Dimensional Systems, and Quantum Phenomena Optical properties of p–i–n structures based on amorphous hydrogenated silicon with silicon nanocrystals formed via nanosecond laser annealing
Volume 51, Nº 10 (2017) Fabrication, Treatment, and Testing of Materials and Structures Formation and study of p–i–n structures based on two-phase hydrogenated silicon with a germanium layer in the i-type region
Volume 52, Nº 2 (2018) Fabrication, Treatment, and Testing of Materials and Structures Ion-Beam Synthesis of the Crystalline Ge Phase in SiOxNy Films upon Annealing under High Pressure
Volume 52, Nº 9 (2018) Semiconductor Structures, Low-Dimensional Systems, and Quantum Phenomena Study of the Structural and Emission Properties of Ge(Si) Quantum Dots Ordered on the Si(001) Surface
Volume 52, Nº 9 (2018) Microcrystalline, Nanocrystalline, Porous, and Composite Semiconductors On the Formation of IR-Light-Emitting Ge Nanocrystals in Ge:SiO2 Films
Volume 53, Nº 3 (2019) Fabrication, Treatment, and Testing of Materials and Structures Crystallization of Amorphous Germanium Films and Multilayer a-Ge/a-Si Structures upon Exposure to Nanosecond Laser Radiation
 

JORNAIS

Lista de periódicos

Pesquisar artigos

INFORMAÇÕES LEGAIS

Política de privacidade

Contrato do usuário

 

RCSI CONTATOS

telefone: +7 (499) 941-01-15

endereço: Leninsky Prospekt 32a
Moscou, 119334

E-mail: info@rcsi.science

PLATAFORMA ALIMENTADA POR

RUSSIAN CENTRE
FOR SCIENTIFIC INFORMATION

TOP