编辑政策
宗旨及范围
Journal is covers technological, physical and circuit engineering problems in micro- and nanoelectronics. Special emphasis on new trends in lithography (optical, x-ray, electron, ion), etching, impurity implantation, deposition and planarization in submicron and nanometer scale.
栏目要求
ДИАГНОСТИКА
ИСКУССТВЕННЫЙ ИНТЕЛЛЕКТ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРИБОРОВ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
КВАНТОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
МОДЕЛИРОВАНИЕ
ЛИТОГРАФИЯ
ПРИБОРЫ
ТЕХНОЛОГИЯ
МЭМС–УСТРОЙСТВА
ТЕХНОЛОГИИ
УСТРОЙСТВА
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
НАДЕЖНОСТЬ
ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
ПАМЯТЬ
СЕНСОРЫ
МЭМС-УСТРОЙСТВА
出版周期
Periodicity: 6 issues a year.
Indexing
Indexing:
- RSCI
- translated version in Scopus
- VAK