Política Editorial

Tema da Revista

Journal is covers technological, physical and circuit engineering problems in micro- and nanoelectronics. Special emphasis on new trends in lithography (optical, x-ray, electron, ion), etching, impurity implantation, deposition and planarization in submicron and nanometer scale.

 
 

Frequência de publicações

Periodicity: 6 issues a year.

 

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