Редакция саясаты
Журнал тақырыбы
Journal is covers technological, physical and circuit engineering problems in micro- and nanoelectronics. Special emphasis on new trends in lithography (optical, x-ray, electron, ion), etching, impurity implantation, deposition and planarization in submicron and nanometer scale.
Бөлімдер мен бағыттар
ДИАГНОСТИКА
ИСКУССТВЕННЫЙ ИНТЕЛЛЕКТ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРИБОРОВ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
КВАНТОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
МОДЕЛИРОВАНИЕ
ЛИТОГРАФИЯ
ПРИБОРЫ
ТЕХНОЛОГИЯ
МЭМС–УСТРОЙСТВА
ТЕХНОЛОГИИ
УСТРОЙСТВА
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
НАДЕЖНОСТЬ
ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
ПАМЯТЬ
СЕНСОРЫ
МЭМС-УСТРОЙСТВА
Кезеңділігі
Periodicity: 6 issues a year.
Indexing
Indexing:
- RSCI
- translated version in Scopus
- VAK