Editorial Policies
Aims and Scope
Journal is covers technological, physical and circuit engineering problems in micro- and nanoelectronics. Special emphasis on new trends in lithography (optical, x-ray, electron, ion), etching, impurity implantation, deposition and planarization in submicron and nanometer scale.
Sections
ДИАГНОСТИКА
ИСКУССТВЕННЫЙ ИНТЕЛЛЕКТ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРИБОРОВ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
КВАНТОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
МОДЕЛИРОВАНИЕ
ЛИТОГРАФИЯ
ПРИБОРЫ
ТЕХНОЛОГИЯ
МЭМС–УСТРОЙСТВА
ТЕХНОЛОГИИ
УСТРОЙСТВА
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
НАДЕЖНОСТЬ
ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
ПАМЯТЬ
СЕНСОРЫ
МЭМС-УСТРОЙСТВА
Publication Frequency
Periodicity: 6 issues a year.
Indexing
Indexing:
- RSCI
- translated version in Scopus
- VAK