Etching of Disc and Ring Patterns in Si3N4/GaN Structure by Ga+ FIB


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The work presents experimental data of Ga+ focused ion beam etching of disc and ring patterns in Si3N4/GaN structure. The reasons for the difference in etching depth between the discs and the rings are described.

Ключевые слова

Об авторах

M. Mitrofanov

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: maxi.mitrofanov@gmail.com
Россия, St. Petersburg, 194021

G. Voznyuk

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: glebufa0@gmail.com
Россия, St. Petersburg, 194021

S. Rodin

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: s_rodin77@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

W. Lundin

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: lundin.vpegroup@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

V. Evtikhiev

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: evtikhiev@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Tsatsulnikov

SHM R and E Center, Russian Academy of Sciences

Автор, ответственный за переписку.
Email: andrew@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg


© Pleiades Publishing, Ltd., 2019

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах