Etching of Disc and Ring Patterns in Si3N4/GaN Structure by Ga+ FIB


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The work presents experimental data of Ga+ focused ion beam etching of disc and ring patterns in Si3N4/GaN structure. The reasons for the difference in etching depth between the discs and the rings are described.

Негізгі сөздер

Авторлар туралы

M. Mitrofanov

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: maxi.mitrofanov@gmail.com
Ресей, St. Petersburg, 194021

G. Voznyuk

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: glebufa0@gmail.com
Ресей, St. Petersburg, 194021

S. Rodin

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: s_rodin77@mail.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

W. Lundin

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: lundin.vpegroup@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

V. Evtikhiev

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: evtikhiev@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

A. Tsatsulnikov

SHM R and E Center, Russian Academy of Sciences

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: andrew@beam.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg


© Pleiades Publishing, Ltd., 2019

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>