Concentric Hexagonal GaN Structures for Nanophotonics, Fabricated by Selective Vapor-Phase Epitaxy with Ion-Beam Etching


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Resumo

In the Si3N4 layer, coaxial and single submicrometer GaN structures of hexagonal shape with pyramidal facets are formed by selective vapor-phase epitaxy in windows produced with a focused ion beam. It is found that coaxial hexagonal structures are formed during the growth process in ring-shaped mask windows.

Sobre autores

M. Mitrofanov

Ioffe Institute; SHM R&E Center

Email: Kalit@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 194021

I. Levitskii

Ioffe Institute; SHM R&E Center

Email: Kalit@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 194021

G. Voznyuk

ITMO University

Email: Kalit@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 197101

E. Tatarinov

ITMO University

Email: Kalit@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 197101

S. Rodin

Ioffe Institute; SHM R&E Center

Email: Kalit@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 194021

M. Kaliteevski

Ioffe Institute; ITMO University; St. Petersburg National Research Academic University

Autor responsável pela correspondência
Email: Kalit@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 197101; St. Petersburg, 194021

V. Evtikhiev

St. Petersburg National Research Academic University

Email: Kalit@mail.ioffe.ru
Rússia, St. Petersburg, 194021


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