Effect of Low-Dose Proton Irradiation on the Electrical Characteristics of 4H-SiC Junction Diodes


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The effect of low-dose proton irradiation (irradiation dose 1010–1.8 × 1011 cm–2) on the capacitance–voltage, forward current–voltage, and reverse-recovery characteristics of 4H-SiC pno junction diodes is studied. Irradiation is performed with 1.8-MeV protons through a 10-μm-thick Ni-film (the proton energy and Ni-film thickness were chosen so that the projected proton range in silicon carbide is approximately equal to the pno junction depth). It is shown that proton irradiation in the above doses (i) does not change the concentration of majority carriers, (ii) leads to a dramatic decrease in the lifetime of nonequilibrium carriers (at a low injection level) (by several tens of times at the highest irradiation dose), and (iii) decreases the reverse-recovery charge at a high injection level (by up to a factor of 3 at the highest irradiation dose).

Авторлар туралы

P. Ivanov

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: Pavel.Ivanov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

A. Potapov

Ioffe Institute

Email: Pavel.Ivanov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

M. Kudoyarov

Ioffe Institute

Email: Pavel.Ivanov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

T. Samsonova

Ioffe Institute

Email: Pavel.Ivanov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021


© Pleiades Publishing, Ltd., 2018

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>