Информация об авторе

Asomoza, R.

Выпуск Раздел Название Файл
Том 51, № 5 (2017) Nonelectronic Properties of Semiconductors (Atomic Structure, Diffusion) Negative annealing in silicon after the implantation of high-energy sodium ions

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах