Informaçao sobre o Autor
Mizerov, M.N.
| Edição | Seção | Título | Arquivo |
| Volume 52, Nº 16 (2018) | 26th INTERNATIONAL SYMPOSIUM “NANOSTRUCTURES: PHYSICS AND TECHNOLOGY”. NANOSTRUCTURE TECHNOLOGY | FIB Lithography Challenges of Si3N4/GaN Mask Preparation for Selective Epitaxy |