Автор туралы ақпарат

Mizerov, M.N.

Шығарылым Бөлім Атауы Файл
Том 52, № 16 (2018) 26th INTERNATIONAL SYMPOSIUM “NANOSTRUCTURES: PHYSICS AND TECHNOLOGY”. NANOSTRUCTURE TECHNOLOGY FIB Lithography Challenges of Si3N4/GaN Mask Preparation for Selective Epitaxy