Информация об авторе
Бетелин, В. Б.
Выпуск | Раздел | Название | Файл |
Том 52, № 2 (2023) | ТЕХНОЛОГИЯ | Параметры плазмы и кинетика реактивно-ионного травления SiO2 и Si3N4 в смеси HBr/Cl2/Ar | |
Том 52, № 5 (2023) | ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ | О влиянии малых добавок F2, H2 и HF на концентрации активных частиц в плазме тетрафторметана |