Автор туралы ақпарат
Бетелин, В. Б.
Шығарылым | Бөлім | Атауы | Файл |
Том 52, № 2 (2023) | ТЕХНОЛОГИЯ | Plasma Parameters and Kinetics of Reactive Ion Etching of SiO2 and Si3N4 in an HBr/Cl2/Ar Mixture | |
Том 52, № 5 (2023) | ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ | The Influence of Small F2, H2, and HF Additives on the Concentration of Active Particles in Tetrafluoromethane Plasma |