Electrophysical Parameters and Emission Spectra of the Glow Discharge of Difluorodichloromethane

D. B. Murin; Мурин Д. Б.; I. A. Chesnokov; Чесноков И. А.; I. A. Gogulev; Гогулев И. А.; A. E. Grishkov; Гришков А. Э.

doi:10.31857/S0544126923700503

Electrophysical Parameters and Emission Spectra of the Glow Discharge of Difluorodichloromethane

作者: Murin D.B.¹, Chesnokov I.A.¹, Gogulev I.A.¹, Grishkov A.E.¹
隶属关系:
1. Federal State Budgetary Educational Institution of Higher Education, Ivanovo State University of Chemical Technology
期: 卷 52, 编号 5 (2023)
页面: 347-353
栏目: ДИАГНОСТИКА
URL: https://journals.rcsi.science/0544-1269/article/view/138553
DOI: https://doi.org/10.31857/S0544126923700503
EDN: https://elibrary.ru/PZUWDO
ID: 138553

如何引用文章

全文:

开放存取

##reader.subscriptionAccessGranted##
受限制的访问

订阅存取

详细
作者简介
参考
补充文件
统计

详细

The effect of the external discharge parameters on the electrophysical parameters and emission spectra of difluorodichloromethane plasma is analyzed. Data on the reduced electric field strength and gas temperature are obtained. It is established that the reduced electric field strength in difluorodichloromethane plasma decreases markedly with increasing gas pressure (at a constant discharge current). It is shown that a linear increase in the gas temperature with increasing pressure is due to the increase in the specific power deposited in the discharge. Atomic and molecular components are found in the emission spectra of the glow discharge of difluorodichloromethane. It is established that, with increasing current, a linear increase in the radiation intensity occurs, which corresponds to the mechanism of the direct excitation of the radiating states upon electron impact and indicates the absence of secondary processes.

关键词

difluorodichloromethane, reduced electric field strength, gas temperature, specific power, radia-tion intensity, particle concentrations

参考

Данилин Б.С., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат, 1987. С. 264.
Дунаев А.В., Ситанов Д.В., Мурин Д.Б. Закономерности взаимодействия меди с хлорсодержащими газами // Химия высоких энергий. 2017. Т. 51. № 3. С. 239–243.
Wang Y.F., Lee W.J., Chen C.Y. Reaction Mechanisms in Both a CCl2F2/O2/Ar and a CCl2F2/H2/Ar RF Plasma Environment // Plasma Chem. and Plasma Proces. 2000. V. 20. № 4. P. 469–494.
Stoffels W.W., Stoffels E., Haverlag M. The chemistry of a CCl2F2 radio frequency discharge // J. Vac. Sci. Technol. A. 1995. V. 13. № 4. P. 2058–2066.
Ефремов А.М., Мурин Д.Б., Левенцов А.Е. Кинетика и режимы плазмохимического травления GaAs в условиях индукционного ВЧ разряда в CF2Cl2 // Микроэлектроника. 2014. Т. 43. № 6. С. 429–434.
Пивоваренок С.А., Дунаев А.В., Мурин Д.Б. Кинетика взаимодействия высокочастотного разряда CCl2F2 с арсенидом галлия // Микроэлектроника. 2016. Т. 45. № 5. С. 374–378.
Dunaev A.V., Murin D.B. Structuring copper in the plasma medium of a high-frequency discharge // Russian Microelectronics. 2018. V. 47. № 4. P. 234–238.
Pearse R.W.B., Gaydon A.G. The identification of molecular spectra. Fourth edition. New York: John Wiley & Sons, inc. 1976. P. 407.
Стриганов А.Р., Свентицкий Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат., 1966. С. 899.
Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. Изд. 2-е; перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. С. 720.
Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106–114.
Мурин Д.Б., Пивоваренок С.А., Малюгин А.А., Бобылев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения тлеющего разряда постоянного тока в среде фреона R-23 // Микроэлектроника. 2022. Т. 51. № 3. С. 212–217.
Пивоваренок С.А., Дунаев А.В., Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И. Электрофизические параметры и эмиссионные спектры плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2011. Т. 54. № 9. С. 48–52.
Ефремов A.M., Куприяновская А.П., Светцов В.И. Спектр излучения тлеющего разряда в хлоре // Журнал прикладной спектроскопии. 1993. Т. 59. № 3–4. С. 222.
Куприяновская А.П., Светцов В.И. Механизмы образования и разрушения активных частиц в галогенной плазме // Изв. ВУЗов. Химия и хим.технология. 1983. Т. 26. № 12. С. 1440.