Cross Sections of Scattering Processes in Electron-Beam Lithography - PDF (Орыс тілі)
© А.Е. Рогожин, Ф.А. Сидоров, 2023
© А.Е. Рогожин, Ф.А. Сидоров, 2023
Пайдаланушы
Кілтсөздер
Förster effect
bipolar transistor
charge qubit
diagnostics
dissociation
etching
fluorine atoms
ionization
kinetics
magnetron sputtering
mechanical stress
mechanism
memristor
modeling
molecular beam epitaxy
plasma
polymerization
quantum dot
resistive switching
silicon
specific power
Мақала құралдары
Мақаланы E-mail арқылы жіберу (Кіру/тіркелу қажет)
Автормен байланысу (Кіру/тіркелу қажет)
Мақаланы E-mail арқылы жіберу (Кіру/тіркелу қажет)
Автормен байланысу (Кіру/тіркелу қажет)
Ағымдағы шығарылым
Том 54, № 6 (2025)
×
Пайдаланушы
Кілтсөздер
Förster effect
bipolar transistor
charge qubit
diagnostics
dissociation
etching
fluorine atoms
ionization
kinetics
magnetron sputtering
mechanical stress
mechanism
memristor
modeling
molecular beam epitaxy
plasma
polymerization
quantum dot
resistive switching
silicon
specific power
Мақала құралдары
Мақаланы E-mail арқылы жіберу (Кіру/тіркелу қажет)
Автормен байланысу (Кіру/тіркелу қажет)
Мақаланы E-mail арқылы жіберу (Кіру/тіркелу қажет)
Автормен байланысу (Кіру/тіркелу қажет)
Ағымдағы шығарылым
Том 54, № 6 (2025)
© А.Е. Рогожин, Ф.А. Сидоров, 2023