Visualization of Defects on the Semiconductor Surface Using a Dielectric Barrier Discharge


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

It is demonstrated that plasma techniques can be used to detect various defects on a solid surface by a self-sustained discharge under atmospheric pressure. Special attention is paid to controlling surface defects and the end cleavages of semiconducting wafers and pinholes of layered structures.

Об авторах

D. Sitanov

Ivanovo State University of Chemistry and Technology

Автор, ответственный за переписку.
Email: sitanov@isuct.ru
Россия, Ivanovo, 153000

S. Pivovarenok

Ivanovo State University of Chemistry and Technology

Email: sitanov@isuct.ru
Россия, Ivanovo, 153000

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2018

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).