Visualization of Defects on the Semiconductor Surface Using a Dielectric Barrier Discharge


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

It is demonstrated that plasma techniques can be used to detect various defects on a solid surface by a self-sustained discharge under atmospheric pressure. Special attention is paid to controlling surface defects and the end cleavages of semiconducting wafers and pinholes of layered structures.

Авторлар туралы

D. Sitanov

Ivanovo State University of Chemistry and Technology

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: sitanov@isuct.ru
Ресей, Ivanovo, 153000

S. Pivovarenok

Ivanovo State University of Chemistry and Technology

Email: sitanov@isuct.ru
Ресей, Ivanovo, 153000

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2018