Physicochemical deposition features of peritectic alloys for high-density chipping of silicon crystals


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Physicochemical aspects of the electrochemical formation of vertical contact structures of the Sn–Ag peritectic composition for chipping integrated microcircuits by the inverted crystal method are considered. The layer-by-layer deposition of metals is investigated and the conditions of the vertical growth of the structures are determined.

Об авторах

V. Roshchin

National Research University MIET

Автор, ответственный за переписку.
Email: OFH.MIET@yandex.ru
Россия, Moscow

V. Dshkhunyan

OAO Rossiiskaya Elektronika

Email: OFH.MIET@yandex.ru
Россия, Moscow

I. Petukhov

National Research University MIET

Email: OFH.MIET@yandex.ru
Россия, Moscow

K. Sen’chenko

National Research University MIET

Email: OFH.MIET@yandex.ru
Россия, Moscow

M. Vagin

National Research University MIET

Email: OFH.MIET@yandex.ru
Россия, Moscow


© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах