Investigation of textured aluminum nitride films prepared by chemical vapor deposition

A. N. Red’kin; M. V. Ryzhova; E. E. Yakimov; D. V. Roshchupkin

doi:10.1134/S1063739717010085

Investigation of textured aluminum nitride films prepared by chemical vapor deposition

Авторлар: Red’kin A.N.¹, Ryzhova M.V.¹, Yakimov E.E.¹, Roshchupkin D.V.¹
Мекемелер:
1. Institute of Microelectronics Technology and High-Purity Materials
Шығарылым: Том 46, № 1 (2017)
Беттер: 26-29
Бөлім: Article
URL: https://journals.rcsi.science/1063-7397/article/view/186204
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063739717010085
ID: 186204

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

Textured polycrystalline aluminum nitride films are grown on a silica substrate by chemical vapor deposition using metallic aluminum and ammonium chloride as the initial reagents. The good texture and crystal quality of the prepared films are confirmed by raster electron microscopy, Raman spectroscopy, and X-ray diffraction.