Experimental Evaluation of Reliability of Deep Submicron SOI MOS Transistors at High Temperatures


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

In this paper, 0.18–0.5 μm SOI MOS transistors are tested for compliance with the reliability criteria applied to high-temperature electronics and their components. The main parameters of SOI MOS transistors are measured in the temperature range from −60 to +300°С. The specific behavior exhibited by SOI MOS transistors at high temperatures should be taken into account when designing high-temperature integrated circuits so as to avoid premature failures and increase the reliability of devices.

Авторлар туралы

A. Benediktov

Molecular Electronics Research Institute (MERI)

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: asb_sm@mail.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124460

N. Shelepin

Molecular Electronics Research Institute (MERI)

Email: asb_sm@mail.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124460

P. Ignatov

Molecular Electronics Research Institute (MERI)

Email: asb_sm@mail.ru
Ресей, Zelenograd, Moscow, 124460


© Pleiades Publishing, Ltd., 2018

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>