Electronic structure and features of interatomic interactions in methoxysilanes HnSi(OCH3)4–n


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The electronic structure and features of interatomic interactions in a series of methoxysilanes HnSi(OCH3)4–n (n = 3–0) were studied via density functional theory-based computer simulation and comparison of the simulated results with the photoelectron spectroscopic data. Calculations for the Si(OH)4, SiH4, H2O, and CH4 molecules were also performed in order to establish the laws governing the electronic structure formation of methoxysilanes. The distributions of the densities of electron states in the valence band and the correlation energy diagrams, supplemented by visualization of the molecular orbitals of the compounds, were constructed.

Об авторах

M. Tatevosyan

Research Institute of Physics

Автор, ответственный за переписку.
Email: mmtat@yandex.ru
Россия, pr. Stachki 194, Rostov-on-Don, 344090

T. Danilenko

Research Institute of Physics

Email: mmtat@yandex.ru
Россия, pr. Stachki 194, Rostov-on-Don, 344090

V. Vlasenko

Research Institute of Physics

Email: mmtat@yandex.ru
Россия, pr. Stachki 194, Rostov-on-Don, 344090

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).