Plasma technologies for material processing in nanoelectronics: Problems and solutions


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The review considers plasma-processing technologies used in solid-state electronics, both widely used and ones, which do not found yet industrial applications. Several from them are developed specifically for creating nanoelectronic devices. Tendencies toward an increase in the working rate and memory volume and a decrease in the sizes of telecommunication systems necessitate the development of electronic devices based on new principles and, hence, the corresponding technologies for implementation. Physical problems that impede the application of conventional methods in new problems are analyzed, and possible solutions are proposed.

Об авторах

E. Shustin

Kotel’nikov Institute of Radio Engineering and Electronics (Fryazino Branch); Moscow Engineering Physics Institute (National Research Nuclear University)

Автор, ответственный за переписку.
Email: shustin@ms.ire.rssi.ru
Россия, Fryazino, Moscow oblast, 141190; Moscow, 115409


© Pleiades Publishing, Inc., 2017

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах