Plasma technologies for material processing in nanoelectronics: Problems and solutions


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The review considers plasma-processing technologies used in solid-state electronics, both widely used and ones, which do not found yet industrial applications. Several from them are developed specifically for creating nanoelectronic devices. Tendencies toward an increase in the working rate and memory volume and a decrease in the sizes of telecommunication systems necessitate the development of electronic devices based on new principles and, hence, the corresponding technologies for implementation. Physical problems that impede the application of conventional methods in new problems are analyzed, and possible solutions are proposed.

Авторлар туралы

E. Shustin

Kotel’nikov Institute of Radio Engineering and Electronics (Fryazino Branch); Moscow Engineering Physics Institute (National Research Nuclear University)

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: shustin@ms.ire.rssi.ru
Ресей, Fryazino, Moscow oblast, 141190; Moscow, 115409


© Pleiades Publishing, Inc., 2017

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>