Power switching transistors based on gallium nitride epitaxial heterostructures


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The results of the development of power switching transistors based on epitaxial gallium nitride heterostructures to create an energy-efficient conversion technique are presented. The developed powerful GaN transistor operates in enrichment mode with unlocking threshold voltage Vth = +1.2 V and a maximum drain-source current Ids = 0.15 A/mm at the drain-source voltage Vds = +8 V. The drain-source breakdown voltage in the closed state is Vb = 300 V at the drain-source distance Lds = 8.5 μm and drain-source voltage Vds = 0 V.

Об авторах

E. Erofeev

Research Institute of Electrical Communication Systems

Автор, ответственный за переписку.
Email: erofeev@micran.ru
Россия, Tomsk, 634034

I. Fedin

Joint-Stock Research and Production Company Mikran

Email: erofeev@micran.ru
Россия, Tomsk, 634045

Y. Yurjev

Physical Technical Institute

Email: erofeev@micran.ru
Россия, Tomsk, 634050

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).