Applications of the Technology of Fast Neutral Particle Beams in Micro- and Nanoelectronics


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

A brief review of the results of the application of fast neutral particle (FNP) beam sources in the field of the production technology of micro- and nanoelectronic devices published in the literature is presented. Processes such as surface cleaning; sputtering and etching of insulators, simiconductors, and metals; layer-by-layer etching; deposition of thin films directly from beams or by sputtering, and neutral-beam-enhanced deposition; oxidation, nitridation, and fluorination of a near-surface layer; production of the elements of micro- and nanoelectromechanical devices; nanostructuring; and modification of self-assembled organic molecular structures are considered. In addition, the results of investigating a decrease in the degree of degradation of the electrophysical properties of materials and electrical characteristics of device structures when passing from ion-beam technologies to FNP beams are discussed.

Авторлар туралы

V. Kudrya

Institute of Physics and Technology

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: kvp@ftian.ru
Ресей, Moscow, 117218

Yu. Maishev

Institute of Physics and Technology

Email: kvp@ftian.ru
Ресей, Moscow, 117218


© Pleiades Publishing, Ltd., 2018

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>