Study into the properties of TiN/WN multilayer nanocoatings prepared via magnetron sputtering

V. I. Bodnarchuk; P. Petrov; D. P. Kozlenko; D. Dechev; N. Ivanov; I. Martev; I. A. Kasatkin

doi:10.1134/S1027451017010244

Study into the properties of TiN/WN multilayer nanocoatings prepared via magnetron sputtering

Авторлар: Bodnarchuk V.I.¹, Petrov P.², Kozlenko D.P.¹, Dechev D.², Ivanov N.², Martev I.², Kasatkin I.A.³
Мекемелер:
1. Joint Institute for Nuclear Research
2. Institute of Electronics
3. St. Petersburg State University
Шығарылым: Том 11, № 1 (2017)
Беттер: 186-189
Бөлім: Article
URL: https://journals.rcsi.science/1027-4510/article/view/191541
DOI: https://doi.org/10.1134/S1027451017010244
ID: 191541

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

Titanium-nitride (TiN) and tungsten-nitride (WN) thin films with a layer thickness of 6 nm, which are obtained via magnetron sputtering on silicon substrates, are studied. The structural and mechanical properties are presented.