Mikroèlektronika
ISSN 0544-1269 (Print)
Menu
Arquivos
Página principal
Sobre a Revista
Equipe Editorial
Política Editorial
Diretrizes para Autores
Sobre a Revista
Edições
Pesquisa
Edição corrente
Arquivos
Contatos
Todas as revistas
Usuário
Nome de usuário
Senha
Lembrar usuário
Esqueceu a senha?
Cadastro
Conteúdo da revista
Pesquisa
Escopo da Busca
Todos
Autores
Título
Resumo
Termos
Texto integral
Navegar
Edições
Autores
por título
Outras Revistas
×
Usuário
Nome de usuário
Senha
Lembrar usuário
Esqueceu a senha?
Cadastro
Conteúdo da revista
Pesquisa
Escopo da Busca
Todos
Autores
Título
Resumo
Termos
Texto integral
Navegar
Edições
Autores
por título
Outras Revistas
Página principal
>
Pesquisa
>
Informaçao sobre o Autor
Informaçao sobre o Autor
Руденко, К. В.
Edição
Seção
Título
Arquivo
Volume 52, Nº 4 (2023)
ТЕХНОЛОГИИ
Mechanisms of the Redistribution of Carbon Contamination in Films Formed by Atomic Layer Deposition
Volume 53, Nº 1 (2024)
ТЕХНОЛОГИИ
Parameters and Composition of Plasma in a Mixture of CF
4
+ H
2
+ Ar: Effect of the CF
4
/H
2
Ratio
Este site utiliza cookies
Ao continuar usando nosso site, você concorda com o procedimento de cookies que mantêm o site funcionando normalmente.
Informação sobre cookies
TOP