Composition and structure of copper oxide films synthesized by reactive magnetron sputtering with a hot target

A. E. Lapshin; V. S. Levitskii; V. I. Shapovalov; A. E. Komlev; E. S. Shutova; I. L. Myl’nikov; A. A. Komlev

doi:10.1134/S108765961604009X

Composition and structure of copper oxide films synthesized by reactive magnetron sputtering with a hot target

Авторлар: Lapshin A.E.¹, Levitskii V.S.², Shapovalov V.I.², Komlev A.E.², Shutova E.S.², Myl’nikov I.L.², Komlev A.A.²
Мекемелер:
1. Grebenshchikov Institute of Silicate Chemistry
2. St. Petersburg Electrotechnical University LETI
Шығарылым: Том 42, № 4 (2016)
Беттер: 359-362
Бөлім: Article
URL: https://journals.rcsi.science/1087-6596/article/view/215620
DOI: https://doi.org/10.1134/S108765961604009X
ID: 215620

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

The influence of the target operation mode on the chemical composition and crystalline structure of copper oxide films deposited onto a quartz glass substrate has been studied using Raman spectroscopy and X-ray phase analysis. The films have been synthesized in an Ar + O₂ gaseous environment using two identical magnetrons, differing only by the method of target cooling.

Негізгі сөздер

films, copper oxide, reactive magnetron sputtering, hot and cold targets, Raman spectroscopy, X-ray phase analysis, composition, structure

Авторлар туралы

A. Lapshin

Grebenshchikov Institute of Silicate Chemistry

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: andlap@mail.ru
Ресей, nab. Makarova 2, St. Petersburg, 199034