Ways of increasing the service life of positive photoresists


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The change in the functional properties of positive photoresists during their storage is a serious issue in photolithography. The recovery of the functional properties of photoresists, and especially, the quality of the edge of the formed elements and changes in their sizes compared to the sizes in the photostencil, is possible by the introduction of additives into the composition of positive photoresists which form hydrogen bonds with the novolak resins constituting them prior to their usage. Experimental verification of the correlation between the density of the hydrogen bonds and the photoresist resolution has been obtained.

Авторлар туралы

V. Lebedev

Lobachevsky State University

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: 13virus@inbox.ru
Ресей, pr. Gagarina 23, GSP-20, Nizhny Novgorod, 603950

V. Kotomina

Lobachevsky State University

Email: 13virus@inbox.ru
Ресей, pr. Gagarina 23, GSP-20, Nizhny Novgorod, 603950

S. Zelentsov

Lobachevsky State University

Email: 13virus@inbox.ru
Ресей, pr. Gagarina 23, GSP-20, Nizhny Novgorod, 603950


© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>