Electrical properties of a TiN/TixAl1 – xOy/TiN memristor device manufactured by magnetron sputtering


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

A memristor device with an active layer of mixed metal oxide has been manufactured using reactive magnetron sputtering and electron lithography. The device’s electrical characteristics, such as the switching voltage and resistances in the low-resistance (LRS) and high-resistance (HRS) states, are stable and they a high resistance ratio in these states. The electrical properties of the device, which are similar to those of a living synapse by neural pulse propagation, have been determined. The possibility of the memristor application as a summing element of an artificial neuron is shown. The large value of the high-to-low resistance ratio and minor variation of the electrical characteristics make it possible to use the device in the neuromorphic computing systems.

Авторлар туралы

A. Bobylev

Tyumen State University

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: andreaubobylev@gmail.com
Ресей, ul. Volodarskogo 6, Tyumen, 625003

S. Udovichenko

Tyumen State University

Email: andreaubobylev@gmail.com
Ресей, ul. Volodarskogo 6, Tyumen, 625003


© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>