Multilayer graphene-based flash memory


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

For the memory element based on a Si/HfO2/multilayer graphene/SiO2/Si structure, the write/erase and charge storage characteristics are evaluated. A sufficiently large work function of electrons in multilayer graphene (MLG) makes it possible to increase the time of storing the charge injected into it. Using MLG in flash memory devices allows one to increase the speed and/or reduce the voltage of reprogramming such devices.

Авторлар туралы

Yu. Novikov

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: nov@isp.nsc.ru
Ресей, Moscow

V. Gritsenko

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch; Novosibirsk State University, Novosibirsk

Email: nov@isp.nsc.ru
Ресей, Moscow; Moscow

G. Krasnikov

Scientific Research Institute of Molecular Electronics

Email: nov@isp.nsc.ru
Ресей, Moscow

O. Orlov

Scientific Research Institute of Molecular Electronics

Email: nov@isp.nsc.ru
Ресей, Moscow


© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>