Emission Theory of the Sputtering of Amorphous Materials: Self-Sputtering


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The dependences of the coefficient of self-sputtering on the type of accelerated ions, their energy, and the angle of incidence on a target are calculated. Satisfactory coincidence between the calculated and experimental results is obtained for С–С and W–W systems. Two mechanisms of the entry of secondary particles into a flow of sputtered atoms are proposed.

Авторлар туралы

A. Pustovit

Institute of Microelectronics Technology and High Purity Materials

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: pustan@ipmt-hpm.ac.ru
Ресей, Chernogolovka, Moscow oblast, 142432

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Allerton Press, Inc., 2018