Emission Theory of the Sputtering of Amorphous Materials: Self-Sputtering


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The dependences of the coefficient of self-sputtering on the type of accelerated ions, their energy, and the angle of incidence on a target are calculated. Satisfactory coincidence between the calculated and experimental results is obtained for С–С and W–W systems. Two mechanisms of the entry of secondary particles into a flow of sputtered atoms are proposed.

Об авторах

A. Pustovit

Institute of Microelectronics Technology and High Purity Materials

Автор, ответственный за переписку.
Email: pustan@ipmt-hpm.ac.ru
Россия, Chernogolovka, Moscow oblast, 142432

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Allerton Press, Inc., 2018

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).