Energy-dispersive dependences of the X-ray photoemission of electrons from implanted silicon


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The possibilities of interpreting the secondary-electron energy spectra and recording the X-ray photoemission of single-crystal silicon samples are examined. Detected shifts in the energy-spectrum extremum, as well as its height, and the entire energy-distribution form for different types of implanted and annealed Si samples, indicate the degree of ordering of surface atoms. The possibilities of employing the Friedel- oscillation model are discussed.

Авторлар туралы

I. Zeltser

Yesenin Ryazan State University

Email: e_moos@mail.ru
Ресей, Ryazan, 390000

E. Moos

Yesenin Ryazan State University

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: e_moos@mail.ru
Ресей, Ryazan, 390000

O. Savushkin

Yesenin Ryazan State University

Email: e_moos@mail.ru
Ресей, Ryazan, 390000

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017