Procedure for determining defects in sputtered clusters of ionic crystals


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The results obtained using methods of total current spectroscopy (TCS) and secondary-ion mass spectroscopy (SIMS) under ion bombardment of LiF crystals are analyzed. It is shown that the majority of the products of crystal sputtering contain point defects. A procedure for determining defects in sputtered clusters of ionic crystals is developed.

Авторлар туралы

U. Sharopov

Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: utkirstar@gmail.com
Өзбекстан, Tashkent, 100125

B. Atabaev

Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies

Email: utkirstar@gmail.com
Өзбекстан, Tashkent, 100125

R. Djabbarganov

Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies

Email: utkirstar@gmail.com
Өзбекстан, Tashkent, 100125

M. Kurbanov

Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies

Email: utkirstar@gmail.com
Өзбекстан, Tashkent, 100125

M. Sharipov

Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies

Email: utkirstar@gmail.com
Өзбекстан, Tashkent, 100125

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2016