Studying the Formation of Single-Layer Graphene on the Surface of SiC


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

Regions of single-layer- and bilayer graphene on the surface of thermally processed 4H-SiC substrates are studied using Kelvin probe force microscopy and Raman spectroscopy. We establish experimentally the key parameters of the adopted graphene growth technique which enables the fraction of bilayer graphene to be reduced to a minimum, while samples with a fraction of single-layer graphene as high as 95% are obtained.

Авторлар туралы

E. Gushchina

Ioffe Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: katgushch@yandex.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

M. Dunaevskiy

Ioffe Institute

Email: katgushch@yandex.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

S. Lebedev

Ioffe Institute

Email: katgushch@yandex.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

I. Eliseev

Ioffe Institute

Email: katgushch@yandex.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

A. Lebedev

Ioffe Institute

Email: katgushch@yandex.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2019