Formation of “negative” silicon whiskers


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

An approach has been proposed for producing “negative” whiskers in Si wafers which is based on the thermal migration of silicon–metal (Si + M) melt droplets in the field of a transverse temperature gradient. We have obtained regular systems of negative whiskers in the form of through holes in Si {111} wafers. It has been shown that the thermal migration of Si + M melt droplets is driven by the difference between the chemical potentials of Si in the liquid and crystalline phases, which arises from the difference in curvature between the liquid/vapor and solid/liquid interfaces and leads to Si dissolution and desorption.

Авторлар туралы

V. Nebol’sin

Voronezh State Technical University

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: vcmsao13@mail.ru
Ресей, Moskovskii pr. 14, Voronezh, 394026

A. Dunaev

Voronezh State Technical University

Email: vcmsao13@mail.ru
Ресей, Moskovskii pr. 14, Voronezh, 394026

A. Vorob’ev

Voronezh State Technical University

Email: vcmsao13@mail.ru
Ресей, Moskovskii pr. 14, Voronezh, 394026

A. Samofalova

Voronezh State Technical University

Email: vcmsao13@mail.ru
Ресей, Moskovskii pr. 14, Voronezh, 394026

V. Zenin

Voronezh State Technical University

Email: vcmsao13@mail.ru
Ресей, Moskovskii pr. 14, Voronezh, 394026

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017