Glass Physics and Chemistry
ISSN 1087-6596 (Print)
ISSN 1608-313X (Online)
Меню
Архив
Главная
О журнале
Редакция
Редакционная политика
Правила для авторов
О журнале
Выпуски
Поиск
Текущий выпуск
Архив
Контакты
Все журналы
Пользователь
Имя пользователя
Пароль
Запомнить меня
Забыли пароль?
Регистрация
Уведомления
Посмотреть
Подписаться
Поиск
Поиск
Область поиска
Все
Авторы
Название
Резюме
Термины
Полный текст
Листать
выпуски
авторы
по заглавиям
по разделам
другие журналы
Подписка
Войти в систему, чтобы проверить подписку
Ключевые слова
Mössbauer spectroscopy
XRD
aluminum oxide
boron oxide
chalcogenide glass
cluster self-organization
glass
hydrothermal synthesis
iron oxide
light scattering
luminescence
microhardness
nanoparticles
porous glass
self-assembly of crystal structures
sol-gel method
solid solutions
structure
thermal expansion
thermal stability
zirconium dioxide
Информация
Для читателей
Авторам
Для библиотек
×
Пользователь
Имя пользователя
Пароль
Запомнить меня
Забыли пароль?
Регистрация
Уведомления
Посмотреть
Подписаться
Поиск
Поиск
Область поиска
Все
Авторы
Название
Резюме
Термины
Полный текст
Листать
выпуски
авторы
по заглавиям
по разделам
другие журналы
Подписка
Войти в систему, чтобы проверить подписку
Ключевые слова
Mössbauer spectroscopy
XRD
aluminum oxide
boron oxide
chalcogenide glass
cluster self-organization
glass
hydrothermal synthesis
iron oxide
light scattering
luminescence
microhardness
nanoparticles
porous glass
self-assembly of crystal structures
sol-gel method
solid solutions
structure
thermal expansion
thermal stability
zirconium dioxide
Информация
Для читателей
Авторам
Для библиотек
Главная
>
Поиск
>
Информация об авторе
Информация об авторе
Rumyantsev, Yu. M.
Выпуск
Раздел
Название
Файл
Том 42, № 5 (2016)
Article
Synthesis of Si–C–N–Fe films from volatile organosilicon substances-precursors and ferrocene. Part II. Properties of SiC
x
N
y
Fe
z
films obtained by thermal decomposition of tris(diethylamino)silane and ferrocene
Том 43, № 1 (2017)
Article
Films based on phases in a Si–C–N system. Part II. plasma chemical synthesis of SiC
x
N
y
:Н films from the mixture of bis(trimethylsilyl)ethylamine and hydrogen
Том 44, № 3 (2018)
Article
Synthesis and Properties of Thin Films Formed by Vapor Deposition from Tetramethylsilane in a Radio-Frequency Inductively Coupled Plasma Discharge
Том 44, № 6 (2018)
Article
Synthesis of Hydrogenated Silicon Oxycarbonitride from a Gas Mixture of Methyltris(Diethylamino)Silane, Nitrogen, and Oxygen
Данный сайт использует cookie-файлы
Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.
О куки-файлах
TOP