Orientation-patterned templates GaAs/Ge/GaAs for nonlinear optical devices. I. Molecular beam epitaxy


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

GaAs/Ge/GaAs heterostructures in which the GaAs layer lattice on Ge is rotated at a right angle to the substrate plane are grown by molecular-beam epitaxy (MBE). Such heterostructures are grown in different epitaxial setups for GaAs and for Ge with wafer transfer through air tor the first time. It is proposed to use surfactants (Bi, Sb) to control GaAs layer nucleation on Ge.

Авторлар туралы

I. Kazakov

Lebedev Physical Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: kazakov@sci.lebedev.ru
Ресей, Leninskii pr. 53, Moscow, 119991

V. Tsekhosh

Lebedev Physical Institute

Email: kazakov@sci.lebedev.ru
Ресей, Leninskii pr. 53, Moscow, 119991

M. Bazalevsky

Lebedev Physical Institute

Email: kazakov@sci.lebedev.ru
Ресей, Leninskii pr. 53, Moscow, 119991

A. Klekovkin

Lebedev Physical Institute

Email: kazakov@sci.lebedev.ru
Ресей, Leninskii pr. 53, Moscow, 119991

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Allerton Press, Inc., 2017