Investigating Thin Ti–O–N Films Deposited via Reactive Magnetron Sputtering


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

Infrared spectroscopy and atomic emission analysis help establish the corrosion resistance of Ti‒O–N films deposited on steel substrates via reactive magnetron sputtering, along with potential biological activity by detecting nitric oxide in model solutions after contact with Ti–O–N coatings. Differential thermal analysis and scanning electron microscopy allow the thermal stability of the films to be judged at temperatures of up to 1300°C.

Авторлар туралы

L. Leonova

Tomsk Polytechnic University

Email: boi5@list.ru
Ресей, Tomsk, 634050

E. Boytsova

Tomsk Polytechnic University

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: boi5@list.ru
Ресей, Tomsk, 634050

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Allerton Press, Inc., 2018