Quantum Size Effect of Bloch Wave Functions of Ultra-High Energy Electrons in a Thin Single-Crystal Film
- 作者: Shkornyakov S.M.1
-
隶属关系:
- Shubnikov Institute of Crystallography of the FSRC “Crystallography and Photonics” of the RAS
- 期: 编号 2 (2024)
- 页面: 108-112
- 栏目: Articles
- URL: https://journals.rcsi.science/1028-0960/article/view/257523
- DOI: https://doi.org/10.31857/S1028096024020166
- EDN: https://elibrary.ru/ARXBWZ
- ID: 257523
如何引用文章
详细
The reflection coefficient of ultra-high-energy electrons (~1 MeV) at their normal incidence on a thin single-crystal film is calculated. It is shown that even at such high particle energies, the quantum size effect of the Bloch waves formed in the film is noticeably manifested. Narrow Bragg reflection peaks are found to appear at certain electron energies. A formula is given that determines their position and intensity on the reflection curve. A comparison is made of reflection coefficients at medium, high and ultra-high particle energies.
作者简介
S. Shkornyakov
Shubnikov Institute of Crystallography of the FSRC “Crystallography and Photonics” of the RAS
编辑信件的主要联系方式.
Email: shkornyakov@mail.ru
俄罗斯联邦, Moscow
参考
- Shishido F. // Tech. Rep. ISSP. Ser. A. 1973. № 616. P. 1.
- Пшеничнов Е.А. // ФТТ. 1962. Т. 4. Вып. 5. С. 1113.
- Schnupp P. // Phys. Stat. Sol. 1967. V. 21. P. 567.
- Schnupp P. // Solid State Electron. 1967. V. 10. P. 785.
- Lopez-Cruz E., Helman J.S. //Phys. Rev. B. 1974. V. 6. № 4. P. 1751.
- Van Rossum M.C.W., Nieuwenhuizen Th.M. // Rev. Mod. Phys. 1999. V. 71. № 1. P. 313.
- Barra F., Gaspard P. // J. Phys. A. 1999. V. 32. P. 3357.
- Драгунов В.П., Неизвестный И.Г., Гридчин В.Ф. Основы наноэлектроники. М.: Физматкнига-Логос, 2006. 494 с.
- Щука А.А. Наноэлектроника. М.: Физматкнига, 2007. 463 с.
- Мартинес-Дуарт Дж М., Мартин-Палма Р Дж., Агулло-Руеда Ф. Нанотехнологии для микро - и оптоэлектроники. Сер. Мир материалов и технологий. М.: Техносфера, 2007. 367 с.
- Li J., Chen M., Samad A. et al. // Nat. Mater. 2022. V. 21. P. 740.
- Hoang A.T., Hu L., Katiyar A.K., Ahn J.-H. // Matter. 2022. V. 5. P. 4116.
- Шкорняков С.М. // Поверхность. Рентген., синхротр. и нейтрон. исслед. 2022. № 2. С. 104. https://doi.org./10.31857/S1028096022020121 (Shkornyakov S.M. // J. Surf. Invest.: X-Ray, Synchrotron Neutron Tech. 2022. V. 16. №1. P. 181. https://doi.org./10.1134/S1027451022010311
- Шкорняков С.М. // Поверхность. Рентген., синхротр. и нейтрон. исслед. 2022. № 8. С. 102. https://doi.org./10.31857/S1028096022080143 (Shkornyakov S.M. // J. Surf. Invest.: X-Ray, Synchrotron Neutron Tech. 2022.V.16. № 4. P. 653. https://doi.org./10.1134/S1027451022040334)
- Шкорняков С.М. // Поверхность. Рентген., синхротр. и нейтрон. исслед. 2017. № 6. С. 83. https://doi.org./10.7868/S020735281706018X (Shkornyakov S.M. // J. Surf. Invest.: X-Ray, Synchrotron Neutron Tech. 2017. V. 11. № 3. P. 650. https://doi.org./10.1134/S1027451017030351)
- Хирш П., Хови А., Николсон Р., Пэшли Д., Уэлан М. Электронная микроскопия тонких кристаллов. М.: Мир, 1968. 574 с. (Hirsch P.B., Howie A., Nicholson R.B., Pashley D.W., Whelan M.J. Electron Microscopy of Thin Crystals.London, Butterworths, 1965.)
补充文件
