Квантовый размерный эффект блоховских волновых функций электронов сверхвысокой энергии в тонкой монокристаллической пленке
- Авторы: Шкорняков С.М.1
-
Учреждения:
- Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова ФНИЦ “Кристаллография и фотоника” РАН
- Выпуск: № 2 (2024)
- Страницы: 108-112
- Раздел: Статьи
- URL: https://journals.rcsi.science/1028-0960/article/view/257523
- DOI: https://doi.org/10.31857/S1028096024020166
- EDN: https://elibrary.ru/ARXBWZ
- ID: 257523
Цитировать
Аннотация
Проведен расчет коэффициента отражения электронов сверхвысокой энергии (~1 МэВ) при их нормальном падении на тонкую монокристаллическую пленку. Показано, что и при столь высоких энергиях частиц заметно проявляется квантовый размерный эффект у сформировавшихся в пленке блоховских волн. Установлено, что при определенной энергии электронов возникают узкие брэгговские пики. Приведена формула, определяющая их положение и интенсивность на кривые отражения. Проведено сравнение коэффициентов отражения при средних, высоких и сверхвысоких энергиях частиц.
Об авторах
С. М. Шкорняков
Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова ФНИЦ “Кристаллография и фотоника” РАН
Автор, ответственный за переписку.
Email: shkornyakov@mail.ru
Россия, Москва
Список литературы
- Shishido F. // Tech. Rep. ISSP. Ser. A. 1973. № 616. P. 1.
- Пшеничнов Е.А. // ФТТ. 1962. Т. 4. Вып. 5. С. 1113.
- Schnupp P. // Phys. Stat. Sol. 1967. V. 21. P. 567.
- Schnupp P. // Solid State Electron. 1967. V. 10. P. 785.
- Lopez-Cruz E., Helman J.S. //Phys. Rev. B. 1974. V. 6. № 4. P. 1751.
- Van Rossum M.C.W., Nieuwenhuizen Th.M. // Rev. Mod. Phys. 1999. V. 71. № 1. P. 313.
- Barra F., Gaspard P. // J. Phys. A. 1999. V. 32. P. 3357.
- Драгунов В.П., Неизвестный И.Г., Гридчин В.Ф. Основы наноэлектроники. М.: Физматкнига-Логос, 2006. 494 с.
- Щука А.А. Наноэлектроника. М.: Физматкнига, 2007. 463 с.
- Мартинес-Дуарт Дж М., Мартин-Палма Р Дж., Агулло-Руеда Ф. Нанотехнологии для микро - и оптоэлектроники. Сер. Мир материалов и технологий. М.: Техносфера, 2007. 367 с.
- Li J., Chen M., Samad A. et al. // Nat. Mater. 2022. V. 21. P. 740.
- Hoang A.T., Hu L., Katiyar A.K., Ahn J.-H. // Matter. 2022. V. 5. P. 4116.
- Шкорняков С.М. // Поверхность. Рентген., синхротр. и нейтрон. исслед. 2022. № 2. С. 104. https://doi.org./10.31857/S1028096022020121 (Shkornyakov S.M. // J. Surf. Invest.: X-Ray, Synchrotron Neutron Tech. 2022. V. 16. №1. P. 181. https://doi.org./10.1134/S1027451022010311
- Шкорняков С.М. // Поверхность. Рентген., синхротр. и нейтрон. исслед. 2022. № 8. С. 102. https://doi.org./10.31857/S1028096022080143 (Shkornyakov S.M. // J. Surf. Invest.: X-Ray, Synchrotron Neutron Tech. 2022.V.16. № 4. P. 653. https://doi.org./10.1134/S1027451022040334)
- Шкорняков С.М. // Поверхность. Рентген., синхротр. и нейтрон. исслед. 2017. № 6. С. 83. https://doi.org./10.7868/S020735281706018X (Shkornyakov S.M. // J. Surf. Invest.: X-Ray, Synchrotron Neutron Tech. 2017. V. 11. № 3. P. 650. https://doi.org./10.1134/S1027451017030351)
- Хирш П., Хови А., Николсон Р., Пэшли Д., Уэлан М. Электронная микроскопия тонких кристаллов. М.: Мир, 1968. 574 с. (Hirsch P.B., Howie A., Nicholson R.B., Pashley D.W., Whelan M.J. Electron Microscopy of Thin Crystals.London, Butterworths, 1965.)