Vanadium- and Titanium Dioxide-Based Memristors Fabricated via Pulsed Laser Deposition

O. A. Novodvorsky; L. S. Parshina; A. A. Lotin; V. A. Mikhalevsky; O. D. Khramova; E. A. Cherebylo; V. Ya. Panchenko

doi:10.1134/S1027451018020313

Vanadium- and Titanium Dioxide-Based Memristors Fabricated via Pulsed Laser Deposition

Авторлар: Novodvorsky O.A.¹, Parshina L.S.¹, Lotin A.A.¹, Mikhalevsky V.A.¹, Khramova O.D.¹, Cherebylo E.A.¹, Panchenko V.Y.¹
Мекемелер:
1. Institute of Laser and Information Technologies, Federal Scientific Research Centre “Crystallography and Photonics”
Шығарылым: Том 12, № 2 (2018)
Беттер: 322-327
Бөлім: Article
URL: https://journals.rcsi.science/1027-4510/article/view/195159
DOI: https://doi.org/10.1134/S1027451018020313
ID: 195159

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

Thin TiO_x and VO_{2 – x} films are fabricated via pulsed laser deposition from metal targets with the help of mask technologies. Their memristive properties are investigated using Au/TiO_x1/TiO_x2/Au and Au/VO₂/VO_{2 – x}/Au thin-film structures, and the possible mechanisms of resistive switching are discussed. The structures are obtained at room temperature in an oxygen atmosphere.