Исследование чувствительности влагочувствительных структур с УФ восстановлением на основе ZnO, изготовленных золь-гель методом
- Авторы: Пермяков Д.С.1, Белых М.А.1, Строгонов А.В.1
-
Учреждения:
- Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования “Воронежский государственный технический университет”
- Выпуск: Том 87, № 9 (2023)
- Страницы: 1343-1347
- Раздел: Статьи
- URL: https://journals.rcsi.science/0367-6765/article/view/135495
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0367676523702368
- EDN: https://elibrary.ru/JIIMCH
- ID: 135495
Цитировать
Аннотация
Разработана структура на основе тонкопленочного нанокристаллического ZnO, полученного золь-гель методом, на гибкой подложке из каптона. Установлено, что ее электрическое сопротивление существенно возрастает под действием содержащейся в воздухе влаги, а при облучении ультрафиолетовым излучением сопротивление структуры уменьшается почти на два порядка. После прекращения экспонирования наблюдается долговременный процесс восстановления электропроводности, описываемый дробно-экспоненциальной функцией Кольрауша.
Об авторах
Д. С. Пермяков
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования“Воронежский государственный технический университет”
Автор, ответственный за переписку.
Email: Dima.P.S@yandex.ru
Россия, Воронеж
М. А. Белых
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования“Воронежский государственный технический университет”
Email: Dima.P.S@yandex.ru
Россия, Воронеж
А. В. Строгонов
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования“Воронежский государственный технический университет”
Email: Dima.P.S@yandex.ru
Россия, Воронеж
Список литературы
- Гаськов А.М., Румянцева М.Н. // Неорг. матер. 2000. Т. 36. № 3. С. 369; Gas’kov A.M., Rumyantseva M.N. // Inorg. Mater. 2000. V. 36. No. 3. P. 293.
- Christopher B. // Sci. Reports. 2017. V. 7. No. 6053. P. 1.
- Singh H., Kumar A., Bansod B.S. et al. // RSC Advances. 2018. V. 8. P. 3839.
- Droepenu E.K., Wee B.S., Chin S.F. et al // Biointerface Res. Appl. Chem. 2022. V. 12. No. 3. P. 4261.
- Tsoutsouva M., Panagopoulos C.N., Papadimitriou D. // Mater. Sci. Engin. B. 2011. V. 176. No. 6. P. 480.
- Pranav D., Kartik P., Kamlesh C. // Proc. Technol. 2016. V. 23. P. 328.
- Skowronski L., Ciesielski A., Olszewska A. // Materials (Basel). 2020. V. 13. No. 16. P. 3510.
- Sonima M., Mini V., Arun A. // Nano Express. 2020. V. 1. No. 3. P. 1.
- Zoltan K., Csanad M., Tamas G. // Catalysis Today. 2022. V. 397. P. 16.
- Poornajar M., Marashi P., Fatmehsari D.H. // Ceram. Int. 2016. V. 42. No. 1. P. 173.
- Heitmann U., Westraadt J., O’Connell J. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2022. V. 14. No. 36. P. 41 149.
- Aljameel A.I., Ali M.K.M. // J. Non-Oxide Glass. 2021. V. 13. No. 2. P. 21.
- Kidalov V., Dyadenchuk A., Bacherikov Y. et al // Turk. J. Phys. 2020. V. 44. No. 1. P. 55.
- Wisz G., Virt I., Sagan P. et al // Nanoscale Res. Lett. 2017. V. 12. No. 253. P. 1.
- Белых М.А. // Межвуз. сб. науч. тр. “Твердотельная электроника, микроэлектроника и наноэлектроника”. Воронеж: Изд-во ВГТУ, 2020. С. 37.
- Пермяков Д.С., Белых М.А., Строгонов А.В. // Межвуз. сб. науч. тр. “Микроэлектроника и наноэлектроника: актуальные проблемы”. Воронеж: Изд-во ВГТУ, 2021. С. 4.
- Jian Lin // Nature Commun. 2014. V. 5. No. 5714. P. 2.
- Коренблит И.Я., Шендер Е.Ф. // УФН. 1989. Т. 157. № 2. С. 267; Korenblit I.Ya., Shender E.F. // Sov. Phys. Usp. 1989. V. 32. No. 2. P. 139.
- Hochli U.T., Knorr K., Loidl A. // Adv. Phys. 1990. V. 39. P. 405.