Nitration of Phenol with Water Activated by Pulsed Hot Plasma Radiation

I. M. Piskarev; Пискарев И. М.

doi:10.31857/S0023119323040113

Нитрование фенола водой, активированной импульсным излучением горячей плазмы

Авторы: Пискарев И.М.¹
Учреждения:
1. Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, (НИИЯФ МГУ)
Выпуск: Том 57, № 4 (2023)
Страницы: 336-340
Раздел: ПЛАЗМОХИМИЯ
URL: https://journals.rcsi.science/0023-1193/article/view/140025
DOI: https://doi.org/10.31857/S0023119323040113
EDN: https://elibrary.ru/QOAAFV
ID: 140025

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ
Доступ закрыт

Доступ предоставлен
Доступ закрыт

Только для подписчиков

Аннотация
Об авторах
Список литературы
Дополнительные файлы
Статистика

Аннотация

Исследовалось нитрование фенола водой, активированной импульсным излучением горячей плазмы искрового электрического разряда (АПВ). Долгоживущими азотсодержащими активными частицами, накапливающимися в воде за время обработки, являются азотистая кислота и комплекс …ONOOH/ONOO⁻, распадающийся на пероксинитрит и пероксиазотистую кислоту. Их концентрация в АПВ после 10 мин обрабтки ~10⁻³ моль/л. При смешивании АПВ с фенолом в соотношении 1 : 1 идентифицированным продуктом реакции является 4-нитрофенол. Выход нитрования через АПВ равен выходу нитрования при прямом действии излучения горячей плазмы на раствор фенола.

Ключевые слова

излучение горячей плазмы, нитрование, фенол, плазмой активированная вода, 4‑нитрофенол

Об авторах

И. М. Пискарев

Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, (НИИЯФ МГУ)

Автор, ответственный за переписку.
Email: i.m.piskarev@gmail.com
Россия, 119234, Москва, Ленинские горы, 1, стр. 2, ГСП-1

Список литературы

Zhou Renwu, Zhou Rusen, Wang P. et al. // Journal of Physics D: Applied Physics. 2020. V. 53. 303001.
Balan G.G., Rosca I., Ursu E.-L. et al. // Infection and Drug Resistance. 2018. V. 11. P. 727.
Vlad I.E., Martin C., Toth A.R. et al. // Romanian Reports in Physics. 2019. V. 71. Article 602.
Mai-Prochnow A., Zhou Renwu, Zhang T. et al. // Biofilms and Microbiomes. 2021. V. 7. Article 11.
Julak J., Hujacova A., Scholtz V. et al. // Plasma Physics Reports. 2018. V. 44. № 1. P. 125.
Patel S.S., Patel D.B., Patel H.D. // ChemistrySelect. 2021. V. 6. P. 1.
Hoggett G., Moodie R.B., Penton J.R., Schofield K. Nitration and aromatic reactivity. Cambridge University Press. 1971.
Uppi R.M., Lemercier J.-N., Zhang H., Prior W.A. et al. // Archives of Biochemistry and Biophysics. 1998. V. 358. № 1. P. 1.
Bowers G.N., McComb R.B., Christensen R.G., Schaffer R. // Clin. Chem. 1980. V. 26. № 6. P. 724.
Amani K., Maleki F. // J. Iran. Chem. Soc. 2007. V. 4. № 2. P. 238.
Pourali A.R., Goli A. // J. Chem. Sci. 2011. V. 123. № 1. P. 63.
Patil M.R., Mohite P.H., Shisodia S., Keri S. // Letters in Organic Chemistry. 2015. V. 12. № 2. P. 129.
Иванова И.П., Пискарев И.М. // Химия Высоких Энергий. 2022. Т. 56. № 5. С. 361. High Energy Chemistry. 2022. V. 56. № 5. P. 339.
Пискарев И.М. // Химия Высоких Энергий. 2016. Т. 50. № 5. С. 449. High Energy Chemistry. 2016. V. 50. № 5. P. 71.
Piskarev I.M., Ivanova I.P. // Plasma Chemistry and Plasma Processing. 2021. V. 41. № 1. P. 447.
Piskarev I.M., Ivanova I.P. // Plasma Sources Sci. Technol. 2019. V. 28. 085008 P. 10.
Пискарев И.М., Астафьева К.А., Иванова И.П. // Современные технологии в медицине. 2018. Т. 10. № 2. С. 90.
Лобачев В.П., Рудаков Е.С. // Успехи химии. 2006. Т. 75. № 5. С. 422.
Пискарев И.М. // Химия Высоких Энергий. 2018. Т. 52. № 4. С. 331. High Energy Chemistry. 2018. V. 52. № 4. P. 348.