Адгезия к монокристаллическому кремнию пленок диазохинонноволачных фоторезистов, облученных электронами

Cover Page

Cite item

Full Text

Open Access Open Access
Restricted Access Access granted
Restricted Access Subscription Access

Abstract

В работе методом индентирования исследовано влияние облучения электронами с энергией 5 МэВ на адгезионные и прочностные свойства пленок диазохинонноволачных фоторезистов ФП9120, SPR-700 и S1813 G2 SP15, нанесенных на пластины монокристаллического кремния методом центрифугирования. Установлено, что облучение приводит к увеличению значений истинной микротвердости фоторезистивных пленок, наиболее выраженному в пленках SPR-700 и обусловленному сшиванием молекул фенолформальдегидной смолы. Показано, что значения удельной энергии отслаивания G фоторезистивных пленок на кремнии при облучении возрастают в результате рекомбинации радикалов на границе раздела фаз фоторезист/кремний с образованием новых ковалентных связей Si-C и Si-O-C. Наблюдаемые экспериментальные результаты объяснены с учетом радиационно-химических и релаксационных процессов, протекающих в объеме полимерной пленки и на межфазной границе.

Full Text

Restricted Access

About the authors

С. А. Вабищевич

Полоцкий государственный университет им. Евфросинии Полоцкой

Email: brinkevich@bsu.by
Belarus, ул. Блохина, 29, Новополоцк, 214400

Н. В. Вабищевич

Полоцкий государственный университет им. Евфросинии Полоцкой

Email: brinkevich@bsu.by
Belarus, ул. Блохина, 29, Новополоцк, 214400

С. Д. Бринкевич

Белорусский государственный университет; ООО “Мой медицинский центр – высокие технологии”

Email: brinkevich@bsu.by
Belarus, пр. Независимости, 4, Минск, 220050; Октябрьский пр., 122, Всеволожск, Ленинградская область, 188640

Д. И. Бринкевич

Белорусский государственный университет

Author for correspondence.
Email: brinkevich@bsu.by
Belarus, пр. Независимости, 4, Минск, 220050

В. С. Просолович

Белорусский государственный университет

Email: brinkevich@bsu.by
Belarus, пр. Независимости, 4, Минск, 220050

С. Б. Ластовский

ГО “НПЦ НАН Беларуси по материаловедению”

Email: brinkevich@bsu.by
Belarus, Минск, ул. П. Бровки, 19, 220072

References

  1. Моро У. Микролитография. Принципы, методы, материалы. В 2-х ч. Ч. 2. М.: Мир, 1990. 632 с. (Moreau W.M. Semiconductor Lithography. Principles, Practices, and Materials. Plenum Press. New York, London. 1988.)
  2. Бринкевич Д.И., Бринкевич С.Д., Вабищевич Н.В., Оджаев В.Б., Просолович В.С. // Микроэлектроника. 2014. Т.43. № 3. C. 193–199. (Brinkevich D.I., Brinkevich S.D., Vabishchevich N.V., Odzhaev V.B., Prosolovich V.S. // Russian Microelectronics. 2014. V. 43. № 3. P. 194–200.)
  3. Вабищевич С.А., Бринкевич С.Д., Бринкевич Д.И., Просолович В.С. // Химия высоких энергий. 2020. T. 54. № 1. С. 54–59. (Vabishchevich S.A., Brinkevich S.D., Brinkevich D.I., Prosolovich V.S. // High Energy Chemistry. 2020. V. 54. № 1. P. 46–50).
  4. Vabishchevich S.A., Brinkevich S.D., Prosolovich V.S., Vabishchevich N.V., Brinkevich D.I. // Journal of Surface Investigation. X-Ray, Synchrotron and Neutron Techniques. 2020. V. 14. № 6. P. 1352–1357.
  5. Вабищевич С.А., Бринкевич С.Д., Вабищевич Н.В., Бринкевич Д.И., Просолович В.С. // Химия высоких энергий. 2021. T. 55. № 6. С. 461–468. https://doi.org/10.31857/S0023119321060152
  6. (Vabishchevich S.A., Brinkevich S.D., Vabishchevich N.V., Brinkevich D.I., Prosolovich V.S. // High Energy Chemistry. 2021. V. 55. № 6. P. 495–501.)
  7. Malzbender J., den Toonder J.M.J., Balkenende A.R., de With G. // Materials Science and Engineering R. 2002. V. 36. P. 47–103.
  8. Вабищевич С.А., Вабищевич Н.В., Бринкевич Д.И., Просолович В.С. // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки. Физика. 2020. № 12. C. 60–64.
  9. Бринкевич Д.И. Вабищевич Н.В., Вабищевич С.А. // Вестник Полоцкого университета. Серия С. Фундаментальные науки. 2010. № 9. C. 92–97.
  10. Вабищевич С.А., Вабищевич Н.В., Бринкевич Д.И., Бринкевич С.Д., Просолович В.С. // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки. 2016. № 12. C. 51–57.
  11. Бринкевич С.Д., Бринкевич Д.И., Просолович В.С., Свердлов Р.Л. // Химия высоких энергий. 2021. T. 55. № 1. С. 66–75. (Brinkevich S.D., Brinkevich D.I., Prosolovich V.S., Sverdlov R.L. // High Energy Chemistry. 2021. V. 55. № 1. P. 65–74.)
  12. Бринкевич Д.И., Бринкевич С.Д., Петлицкий А.Н., Просолович В.С. // Микроэлектроника. 2021. Т. 50. № 4. С. 274–280. (Brinkevich D.I., Brinkevich S.D., Petlitsky A.N., Prosolovich V.S. // Russian Microelectronics, 2021. V. 50. № 4. Р. 239–245.)
  13. Бринкевич С.Д., Гринюк Е.В., Свердлов Р.Л., Бринкевич Д.И., Просолович В.С., Петлицкий А.Н. // Журнал прикладной спектроскопии. 2020. T. 87. № 4. С. 589–594. (Brinkevich S.D., Grinyuk E.V., Brinkevich D. I., Sverdlov R. L., Prosolovich V.S., Pyatlitski A.N. // Journal of Applied Spectroscopy. 2020. V. 87. № 4. Р. 647–651.)
  14. Воронкова Г.М., Попов В.Д., Протопопов Г. А. Физика и техника полупроводников. 2007. Т. 41. № 8. С. 977–980.
  15. Першенков В.С., Попов В.Д., Шальнов Г.М. Поверхностные радиационные эффекты в элементах интегральных микросхем. М.: Энергоатомиздат, 1988. 256 с.

Supplementary files

Supplementary Files
Action
1. JATS XML
2. Fig. 1. Dependences of the specific peeling energy G on the load value for 1.8 μm thick films of photoresist FP9120 initial (1) and irradiated with electrons fluence 3 × 1016 см2 (2).

Download (109KB)
3. Fig. 2. Dependences of specific peeling energy G on the load value for 1.2 μm thick SPR700 photoresist films (1) and irradiated with electrons fluence 3 × 1016 см2 (2).

Download (108KB)
4. Fig. 3. Dependences of specific peeling energy G on the load value for 1.8 μm thick films of photoresist FP9120 freshly prepared (1) and after storage for 3 years (2).

Download (97KB)
5. Scheme 2-3

Download (173KB)
6. Scheme 4-6

Download (458KB)
7. Scheme 7-8

Download (386KB)
8. Scheme 9-10

Download (372KB)

Copyright (c) 2024 Russian Academy of Sciences

This website uses cookies

You consent to our cookies if you continue to use our website.

About Cookies